ASML atinge marco da 'primeira luz' em ferramenta EUV High-NA
AMSTERDÃ (Reuters) - A ASML atingiu a 'primeira luz' em seu novo e enorme sistema de litografia EUV High-NA, confirmou o fabricante holandês de equipamentos para semicondutores nesta quarta-feira, um marco que significa que a ferramenta está funcionando, embora não esteja com desempenho total.
A chefe de desenvolvimento de tecnologia da Intel, Ann Kelleher, mencionou pela primeira vez o progresso durante uma palestra na conferência de litografia SPIE na terça-feira em San Jose.